Tobias Frischmuth und Deposited - Info zur Person

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... IC-PECVD Deposited a-sic:h Thin Films Tobias Frischmuth 2, Michael Schneider 2, Thomas Grille 1, Ulrich Schmid 2 1 Infineon Technologies Austria, Austria; ...

Effect of Reactive Gas Flow Ratio on IC-PECVD Deposited a ...

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Abstract of research paper on Materials engineering, author of scientific article — Tobias Frischmuth, Michael Schneider, Thomas Grille, Ulrich Schmid. Abstract ...

JKU-FoDok Forschungsdokumentation der Universität Linz - Publikation...

fodok.jku.at

Zitat: Tobias Frischmuth, Michael Schneider, Thomas Grille, Ulrich Schmid, "Effect of Reactive Gas Flow Ratio on IC-PECVD Deposited a-SiC:H Thin Films" ...

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